二氧化硅抛光液

产品特点：

1.分散性好、不结晶 。

2.粒径分布广泛：5-100nm。

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

6.PH、粒径、稳定离子等可以根据客户定制(10-150 nm)

抛光过程中具有：

1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。（可以生产150 nm）。

2.高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。

抛光过程后具有：

1.精度可以达到埃级

2.划伤和挖伤可以达到0/0

注：可根据客户定制不同参数

使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

2.稀释后，粗抛时调节PH至11左右，精抛时调节PH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。

储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在零度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

价格实惠：

克思曼的生产技术，是引进国外生产技术，其品质可以媲美进口的产品,但克思曼产品价格比进口便宜，有效的避免了进口产品其交货周期长，价格昂贵。

安全处置：

1.车间内必须保持良好的通风状况。

2.避免放置在儿童能接触到的地方。如与眼睛或皮肤接触，请用大量清水冲洗。

3.在使用时请勿进食或吸烟。

4.使用前可参阅安全技术说明书。

包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

产品制造：品性依据ISO9001规范

保存期限：保质期为二年，建议在一年内使用。

保存条件：温度范围=5°C~35°C ，湿度范围<=70%

危险特征：产品本身没有刺激性，对人体无害。